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和創智云HCCL次氯酸鈉消毒發生器-凈水廠末端消毒設備
詳細信息| 詢價留言品牌：和創智云 型號：HCCL 加工定制：是 規格：50-50000 凈重：按規格 耗電量：按規格 Kw/h 工作時間：888888 min 額定濃度：6000-8000 ppm 消毒液殺菌率：99.99 % 應用領域：污水、飲用水消毒處理 額定濃度：6000-8000 ppm 消毒液殺菌率：99.99 % 次氯酸鈉消毒發生器-凈水廠末端消毒設備凈水廠末端的消毒是很重要的，目前使用次氯酸鈉發生器來對水廠末端進行消毒處理是非常有作用的，近期吉林省長春市范家屯凈水廠就在我司采購了HCCL-10000次氯酸鈉發生器2套，目前已經安裝調試完成。
1、在鹽水溶液中含有，鈉離子、氫離子、氫氧根和氯離子等幾種，按照電解理論，當接入電極時，在一定的電壓下，電解質溶液由于離子的移動和電極反應，發生導電作用，這時氯離子、氫氧根等陰離子向陽極移動，而鈉離子、氫離子等陽離子向陰極移動，并在相應的電極上發生放電，從而進行氧化還原反應，生成相應的物質。
次氯酸鈉消毒發生器-凈水廠末端消毒設備
在目前我國環境形勢日益嚴峻，環保要求日益嚴格的現狀下，次氯酸鈉發生器這種氯劑發生裝置必將為我國環境保護工程、水處理消毒工藝起到不可忽視的作用。
次氯酸鈉是強氧化劑和消毒劑，它是通過取源于廣泛價廉的精制細鹽或海水稀溶液，經無隔膜電解而發生的。為確保次氯酸鈉質地新鮮和有較高的活性。保證消毒效果，本裝置一邊發生，一邊將發生的次氯酸鈉投加使用。它與氯和氯的化合物相比，具有相同的氧化性和消毒作用。我司HCCL型次氯酸鈉發生器裝置，總結國內外現有設備和技術特點，取長補短，精心研究而成的，氯劑制備裝置。次氯酸鈉發生器工作原理：
2、 鹽水溶液電解過程可用下列反應方程式表示：
NaCl =Na+ +Cl-
陽極電解反用：H2O=H++OH- 2Cl- -2e- →Cl2↑
陰極電解反用：2H- +2e-→H2↑
3、在無隔膜電解裝置中，電解質和電解生成物質氫氣從溶液里向外逸出之外，其它均在一個電解槽內，由于氫氣在外逸過程中對溶液起到一定的攪拌作用，使兩極間的電解生成物發生一系列的化學反應，反應方程式如下：
2NaCl+2H2O→2NaOH+H2↑+Cl2
2NaOH+Cl2→NaClO+NaCl+H2O
4、在無隔膜電解鹽水，溶液的總方程式即為上列兩個反應方程式相加得。
NaCl+H2O+2F→NaClO+H2↑
其中：F為法拉第電解常數，其值為26.8安培小時，或96487庫倫。
1、設備自來水進口接入自來水管，自來水壓力要求>0.2Mpa
2、設備排污口連接至排污管/溝
3、設備排氫口連接至室外
4、設備投加計量泵投加管連接至加藥點
5、設備接入380VAC三相四線制供電，切忌接入錯誤電源6、設備需要將儲存投加系統與主機部分進行對接
A）主機設備出藥口連接至次氯酸鈉儲存罐進液口
B）次氯酸鈉儲存罐高、中、低液位依電路圖紙連接至主機的控制系統內
C）次氯酸鈉投加泵相關供電控制線路依電路圖紙連接至主機的控制系統內。
D）將次氯酸鈉排污一流接致排水溝
7、設備鹽水箱與主機部分進行對接
A）將主機軟化水接致溶鹽罐進水口
B）溶鹽罐濃鹽水出口連接至發生器主機
C）溶鹽罐低液位依電路圖紙連接至主機的控制系統內
D）溶鹽罐排水溢流接致排水溝
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